Target Sputtering Tembaga Kemurnian Tinggi – Kothak (4N-6N)

Target Sputtering Tembaga Kemurnian Tinggi – Gambar Unggulan Persegi (4N-6N)

Katrangan Cekak:

Spesifikasi Produk
Jeneng: Target Sputtering Tembaga Kemurnian Tinggi
Standar： ASTM F68 (Tembaga Elektronik Bebas Oksigen), ASTM B115, Kemurnian ≥99,99% (4N-6N), Sesuai RoHS, Sesuai REACH
Bahan： C10100 (Tembaga OFHC), C10200 (Tembaga Bebas Oksigen), Cu Kemurnian Tinggi (4N/5N/6N)
Lumahing： Digiling/Dipoles kanthi Presisi, Ra ≤0,4 μm, Ikatan Indium/Timah Opsional menyang Pelat Pendukung
Rentang Ukuran： 100mm × 100mm nganti 600mm × 600mm (dimensi kothak khusus) Kekandelan： 3mm – 50mm
Tingkat Kemurnian： 99,99% – 99,9999%
Fitur Produk: Kemurnian sing luar biasa kanthi kandungan oksigen lan pengotor sing sithik · Konduktivitas termal lan listrik sing unggul · Struktur butiran sing seragam kanggo sputtering sing konsisten · Kapadhetan dhuwur (teoretis>99,5%) · Keseragaman adhesi lan deposisi film sing apik banget · Generasi partikel sing sithik · Umur target sing dawa lan tingkat pemanfaatan sing dhuwur
Bidang Aplikasi: Lapisan interkoneksi semikonduktor, Sel surya film tipis (CIGS/CdTe), Layar panel datar (TFT-LCD), Lapisan lan pangilon optik, Lapisan PVD dekoratif, Panyimpenan data magnetik, Komponen aerospace lan otomotif, Laboratorium riset lan pangembangan

Kirim email menyang kita

Rincian Produk

Tag Produk

Target Sputtering Tembaga Kemurnian Tinggi – Pernyataan Proses & Jaminan Kualitas

Target sputtering tembaga kothak kita diprodhuksi miturut standar sing dibutuhake kanggo deposisi film tipis sing bisa dipercaya ing proses pelapisan canggih.
Produksi ngetutake alur kerja berbasis vakum sing dikontrol kanthi ketat kanggo njaga kemurnian ultra-tinggi lan konsistensi bahan:
●Pamilihan Bahan Baku: Mung katoda tembaga elektrolitik sing disertifikasi (≥99,99%) sing digunakake minangka bahan awal.
●Vakum Leleh: Peleleh induksi ing vakum dhuwur utawa atmosfer inert nyuda pengambilan oksigen lan rereged sing gampang nguap.
●Pembuangan & Pemurnian: Pemadatan arah sing dikontrol ngasilake ingot kanthi komposisi homogen lan segregasi minimal.
●Pangolahan Panas: Penempaan utawa pengepresan panas entuk kapadhetan meh teoretis lan struktur butiran sing wis diolah.
●Pemesinan Presisi: Panggilingan lan gerinda CNC ngasilake dimensi kothak sing akurat kanthi permukaan sing rata lan sejajar.
●Pemolesan Permukaan: Pemolesan pirang-pirang langkah ngasilake polesan kaya pangilon sing cocog kanggo panggunaan ing kamar sing resik.
●Ikatan Opsional: Ikatan Indium utawa elastomer menyang pelat pendukung molibdenum/tembaga kasedhiya kanggo manajemen termal.
●Reresik & Kemasan Akhir: Reresik ultrasonik nganggo banyu ultra-murni, banjur disegel nganggo vakum ing kantong resik lapis ganda.

Sistem Kontrol Kualitas

● Ketertelusuran lengkap saka lot katoda mentah nganti target sing wis rampung
● Sertifikat materi lan laporan uji sing diwenehake karo saben kiriman
● Panyimpenan conto arsip ≥3 taun kanggo verifikasi pihak katelu (SGS, BV, lsp.)
● Inspeksi 100% saka parameter kritis:
• Kemurnian lan rereged (analisis GDMS/ICP-MS; oksigen khas <10 ppm)
• Pangukuran kapadhetan (metode Archimedes; ≥99,5%)
• Ukuran butir lan mikrostruktur (pemeriksaan metalografi)
• Akurasi dimensi (CMM; kerataan ≤0,05mm khas)
• Kekasaran lan cacat permukaan (profilometer + inspeksi visual)
● Spesifikasi internal ngluwihi syarat ASTM F68. Sifat khas: Konduktivitas termal >390 W/m·K, Resistivitas listrik <1,7 μΩ·cm, Laju sputtering lan kualitas film sing konsisten.
● Proses sing kompatibel karo kamar resik lan fasilitas sing disertifikasi ISO 9001:2015 njamin saben target nyukupi kabutuhan aplikasi PVD modern sing nuntut.